आफ्नो देश वा क्षेत्र छान्नुहोस्।

EnglishFrançaispolskiSlovenija한국의DeutschSvenskaSlovenskáMagyarországItaliaहिंदीрусскийTiếng ViệtSuomiespañolKongeriketPortuguêsภาษาไทยБългарски езикromânescČeštinaGaeilgeעִבְרִיתالعربيةPilipinoDanskMelayuIndonesiaHrvatskaفارسیNederland繁体中文Türk diliΕλλάδαRepublika e ShqipërisëአማርኛAzərbaycanEesti VabariikEuskera‎БеларусьíslenskaBosnaAfrikaansIsiXhosaisiZuluCambodiaსაქართველოҚазақшаAyitiHausaКыргыз тилиGalegoCatalàCorsaKurdîLatviešuພາສາລາວlietuviųLëtzebuergeschmalaɡasʲМакедонскиMaoriМонголулсবাংলা ভাষারမြန်မာनेपालीپښتوChicheŵaCрпскиSesothoසිංහලKiswahiliТоҷикӣاردوУкраїнаO'zbekગુજરાતીಕನ್ನಡkannaḍaதமிழ் மொழி

टीएसएमसीले २०२१ मा n एनएम प्रक्रियामा १ billion अर्ब डलर भन्दा बढी लगानी गर्नेछ

डिजिटलटाइमका रिपोर्टका अनुसार उद्योगका स्रोतहरूले पत्ता लगाए कि टीएसएमसीले २०२१ मा १$ अर्ब डलर भन्दा बढी लगानी गर्ने योजना बनाएको छ।

माथि उल्लेखित उद्योग आन्तरिकहरूले भने कि टीएसएमसीले एप्पलको अर्डरहरू पूरा गर्न २०२२ को दोस्रो आधामा यसको nnm चिप उत्पादन बढाउँदैछ। कम्पनीले यसको एन ((n एनएम प्रोसेस) टेक्नोलोजी प्रयोग गर्नेछ, जसमा २.nnm वा n एनएम प्लस भनिने टेक्नोलोजी समावेश छ। एप्पलको अर्को पुस्ता आईओएस र एप्पल सिलिकॉन उपकरणहरू निर्माण गर्न n एनएम प्रक्रिया नोड।

यो रिपोर्ट गरिएको छ कि जनवरी १ 14 मा आयोजना कलमा टीएसएमसीले खुलासा गर्‍यो कि यस वर्ष पूंजीगत खर्चको 80०% व्यय advanced एनएम, n एनएम र n एनएम सहित उन्नत प्रक्रिया टेक्नोलोजीहरूको लागि प्रयोग गरिनेछ। यो शुद्ध वेफर फाउन्ड्रीको पूँजीगत खर्च २ 20 अर्ब अमेरिकी डलर र २०२१ मा २$ अर्ब अमेरिकी डलर रहेको अनुमान छ जुन गत वर्षको १$.२ अरब अमेरिकी डलर भन्दा निकै बढी हो।

TSMC अनुसार, nnm प्रक्रियाको तुलनामा, nnm प्रक्रियाले ट्रान्झिस्टर घनत्वलाई %०% बढाउन सक्छ, वा १ improve% प्रदर्शनमा सुधार गर्न सक्छ र power०% पावर खपतलाई कम गर्न सक्छ।